FIG악취산화시스템- 고농도 악취제거장치

FIG악취제거시스템

 

 

 

FIG 산화이온가스 를 이용한 악취제거 SYSTEM

 

 

1.. 이온가스의 발생

 

 

현재 생활 주변의 공기 속에 함유되어 있는 악취를 처리하기 위한 기술로는 다양한 종류의 물리, 화학적 및 생물학적 방법들이

사용되고 있으며 그 대표적인 예로는 연소법, 촉매연소법, RTO, 물리·화학적 흡착법, 약액 세정법 및 미생물을 이용한 생물학적

처리법등이 산업현장에서 적용되고 있는 것은 주지의 사실이다.

 

그러나 기존의 물리·화학적 방법은 오염가스 제거 효율은 높지만 시설비, 연료비, 재료비 및 약품비 등과 같은 조업비가 많이

들고 동시에 2차적인 오염원(NOx, 폐수, 흡착제 재생시 발생 가스 등)이 발생되는 단점이 있고 미생물을 이용한 생물학적

처리법은 물리·화학적 처리 방법에 비해 초기 비용이 적게 들고 2차 오염물의 발생이 없어서 경제적인 반면 미생물 관리 기술의

까다로움 등의 단점을 가지 고 있다. 따라서 기존의 어떠한 기술도 악취가스의 다양한 배출 특성에 골고루 적용될 수 있는

기술이 없는 것으로 알려져 있으며 이에 따라 플라즈마 촉매 공법을 이용하여 악취 및 VOCs를 제거하는 새로운 방식의 기술을

소개하고자 한다. 플라즈마는 고온의 상태에서 이온화된 입자를 말하는 것으로서 전기적인 방전으로 인해 생기는 전자와 양이온,

즉, 하전입자들로 구성되어 있으며 전기적으로 중성인 하전 기체의 물질상태를 정의하는 물리학 용어이다. 물질의 세가지 상태

즉, 가장 에너지가 낮은 고체가 제1의 상태이고, 여기에 에너지를 가하면 제2의 상태인 액체로 변하며, 여기에 다시 에너지를

가하면 제3의 상태인 기체로 변한다. 이와 같은 기체에 더 많은 에너지를 가하면 내부에너지가 높아지게 되고 원자는 기저상태에

서 높은 에너지 준위로 올라가서 여기(excitation)상태가 되며 결국에는 원자에서 전자가 이탈하여 자유전자가 발생된다.

이를 전리현상이라 하며 이러한 상태로 존재하는 것을 플라즈마라 한다. 플라즈마 상태는 기체분자가 전자와 이온으로 분리된

상태이므로 국부적으로는 극성을 가지게 되나 전체적으로는 중성상태이며, 에너지 밀도가 큰 특징을 가지고 있다.

 

 

전리를 통하여 플라즈마 상태를 만드는 방법은 다음과 같다.

 

 

? 강한 전계에서 전자에 의한 충돌 전리

? 고온 고압에서 열전리

? 광자 에너지가 여기 에너지보다 클 때 생기는 광전리

? Penning 효과에 의한 전리

? 고전압을 인가하여 전기적인 방전상태를 이용한 전리

 

 

위와 같은 방법 중 악취물질 처리에 이용하는 플라즈마 발생법은 일종의 방전 현상을 이용하는 기술로서 방전이란 기체에

전기장이 가해졌을 때 흐르게 되는 일종의 절연 파괴 현상이며 이중에서 글로우 방전(glow discharge)이 저온 플라즈마 형성에

많이 이용되고 있다.

공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 글로우 방전에 의한 저온 플라즈마로서 반도체 제조공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch)

및 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면처리, 신물질의 합성 등에서 이용되고 있으며,

공정의 미세화가 가능하여 종래의 공정을 대체하고 있으며, 경우에 따라서는 플라즈마만이 제공할 수 있는 물질이나 환경을

이용하기 위한 응용분야가 점점 확대되고 있다.

저온 플라즈마는 혼합가스 중 전자의 평균 에너지가 기체, 분자 등의 물질보다 상당히 높은 상태에 있고, 혼합가스 중의 모든

성분의 에너지가 상태가 동일하게 높은 상태에 있는 혼합가스와 비교하여 비평형이라 할 수 있어 이를 비평형 플라즈마

(non－equillibrium plasma)라고 한다.

 

 

 

적용분야 :

중,고농의 악취를 제거하는 시스템(건식 탈취 및 습식 탈취)으로 모든 풍량에 적합.

하수 및 오.폐수처리장 탈취시설

중계 펌프장 탈취시설

음식물 처리장 탈취시설

축산,분뇨 처리장 탈취시설

비료 및 사료공장 탈취시설

식품공장외 VOC 발생원(도금, 피혁, 제지, 화학외)

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